粉末原子层沉积设备 参考价：面议
粉体包覆（Atomic layer deposition)是通过将气相前驱体脉冲交替地通入反应腔体内并在沉积基体上化学吸附并反应而形成沉积膜的一种技术，具有自限...
正极材料包覆 参考价：面议
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双腔体高真空等离子体原子层沉积系统 参考价：面议
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PALD厂家 参考价：面议
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粉末ALD厂家 参考价：面议
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双腔体高真空等离子体原子层沉积系统 参考价：面议
双腔室高真空等离子体ALD设备是对ALD技术的扩展，通过等离子体的引入，产生大量活性自由基，增强了前驱体物质的反应活性，从而拓展了ALD对前驱源的选择范围和应用...
ALD 参考价：面议
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原子层沉积设备厂家 参考价：面议
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原子层沉积系统厂家 参考价：面议
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桌面式原子层沉积系统 参考价：面议
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粉末原子层沉积 参考价：面议
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等离子体原子层沉积 参考价：面议
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